纳米压印进场搅局，是否重新洗牌光刻机市场？

光刻机的现有局面迎来大洗牌？扬言造芯2nm的纳米压印开始颠覆光刻机领域了。先有华为新机先锋上架，后有佳能的新一代纳米压印光刻机宣布开售。经过20年的技术摸索，这次迎来了更新的突破。一时间引起了众说纷纭。在芯片制造领域内，我们常听到的、也是目前应用最多的光学光刻（EUV、DUV）相比，“下一代光刻机”纳米压印，什么来头？

据佳能官网介绍，这款FPA-1200NZ2C光刻机，可以通过纳米压印技术，实现14nm线宽，即对标 5nm 制程的芯片。并且，随着掩模技术的进一步改进，有望突破最小线宽为10nm的电路图案，相当于 2nm 制程。直到去年12月，有消息传出佳能想给中国提供光刻机，宣称可以媲美EUV。那时正是佳能放出成功实现5nm制程这一消息的时间点。才1年不到，佳能宣布即日起(10月13日)，FPA-1200NZ2C全面接收订单，也是实现了 5nm 规模化量产的信号。佳能消息发出后，13日纳米压印概念股开盘随即拉升。汇创达曾涨超9%，美迪凯、晶方科技、利和兴等纷纷跟涨。

在EUV的盛行的局面下，来自东方的日本半导体，再次打出了纳米压印这张牌，其被日本半导体行业视作与EUV光刻机竞争大小王的不二之选，承载的使命之重，不言而喻。纳米压印技术（ Nanoimprint lithography ，简称“NIL”），此概念由华裔科学家 周郁 教授在1995年首先提出。2003年，作为微纳加工技术，被纳入2003年国际半导体技术蓝图。2009年，美国从事纳米压印技术开发的Molecular Imprints公司曾计划使用NIL进行32nm芯片的制造最终失败；2014年，佳能收购了该公司，更名为Canon Nanotechnologies，宣告正式进入NIL市场。芯片行业技术在不断更迭的同时，纳米压印一直都有量产存储芯片的新闻。蛰伏多年之后，新款的FPA-1200NZ2C开卖了。

现阶段，已有许多使用纳米压印技术生产的产品，且范围也很是广泛，包括存储芯片、LED、OLED、AR 设备等等；在全球范围，除了佳能，还有奥地利的 EV Group、美国Nanonex Corp、瑞典 Obducat AB等公司，都已有成功制出的纳米压印光刻机等设备，还加大力度在提高线宽精度。据有关数据显示，NIL市场还没有想象中那样大，不过整体上正趋于不断壮大。预计在2026年，纳米压印市场规模有望增长至近40 亿美元，2022年至2027年复合增长率可达17.74%。